鄧輝博士，南方科技大學機械與能源工程系長聘副教授，博士生導師。鄧輝博士2017年加入南方科技大學后建立"等離子體先進制造實驗室-APMLab"。本團隊致力于創新性超精密制造技術的研究，為制造技術向原子精度的突破貢獻力量。
實驗室研究聚焦于兩點：其一、以原子尺度物理化學反應為核心技術手段，開發非應力式原子級材料去除新方法，實現微觀尺度的原子級精度制造；其二、以加工算法為基礎，研究加工過程的量化控制與預測等關鍵技術問題，實現宏觀尺度的納米級精度制造。
研究領域：
l 原子及近原子尺度制造: ACSM
l 原子選擇刻蝕技術: Atom-selective Etching
l 原子遷移制造技術: Atom-migration Manufacturing
工作經歷：
◆ 2022年12月~至今：南方科技大學，機械與能源工程系，長聘副教授 (研究員)
◆ 2017年7月~2022年12月：南方科技大學，機械與能源工程系，助理教授 (副研究員)
◆ 2016年3月~2017年6月：新加坡制造技術研究院 (SIMTech)，科學家
◆ 2013年4月~2016年3月：日本學術振興會 (JSPS)，青年研究員
教育經歷：
◆ 2013年4月~2016年3月：大阪大學 (日本)，精密科學與技術專業，博士
◆ 2011年4月~2013年3月：大阪大學 (日本)，精密科學與技術專業，碩士
◆ 2006年9月~2010年6月：華中科技大學，機械設計制造及其自動化專業，學士
所獲榮譽：
◆ 2021年：入選“全球排名前2%頂尖科學家”榜單
◆ 2021年：期刊Nanomanufacturing and Metrology (NMME), Outstanding Contribution Award
◆ 2020年：入選“全球排名前2%頂尖科學家”榜單
◆ 2016年：國際光學工程學會 (SPIE)，Rudolf Kingslake Award
◆ 2015年：中國留學基金委，國家優秀海外留學生獎
◆ 2014年：日本機床技術振興協會，機床技術振興獎
社會職務
青年編委：
◆ International Journal of Extreme Manufacturing (IJEM, JCR Q1, IF=10.04)
◆ Nanomanufacturing and Metrology (NMME)
◆ Nanotechnology and Precision Engineering (NPE)
委員：
◆ 中國機械工程學會 (CMES) -極端制造分會
◆ 美國機械工程師學會 (ASME)
◆ 日本精密工學會 (JSPE)
◆ 國際納米制造學會(ISNM)
◆ 國際工程與技術科學院(AET)
代表性學術論文：
(1) Z. Fang, Y. Zhang, R. Li, Y. Liang and H. Deng*: An efficient approach for atomic-scale polishing of single-crystal silicon via plasma-based atom-selective etching, International Journal of Machine Tools and Manufacture 159 (2020) 103649. (封面論文)
(2) R. Yi, Y. Zhang, X. Zhang, F. Fang and H. Deng*: A Generic Approach of Polishing Metals via Isotropic Electrochemical Etching, International Journal of Machine Tools and Manufacture 150 (2020) 103517.
(3) H. Deng, K. Endo and K. Yamamura: Damage-free finishing of CVD-SiC by a combination of dry plasma etching and plasma-assisted polishing, International Journal of Machine Tools and Manufacture 155 (2017) 38-46.
(4) H. Deng, K. Endo and K. Yamamura*: Plasma-assisted polishing of gallium nitride to obtain a pit-free and atomically flat surface, CIRP Annals-Manufacturing Technology 64 (2015) 531-534.
(5) H. Deng, K. Monna, T. Tabata, K. Endo and K. Yamamura*: Optimization of the plasma oxidation and abrasive polishing processes in plasma-assisted polishing for high effective planarization of 4H-SiC, CIRP Annals-Manufacturing Technology 63 (2014) 529-532.
其他信息：
l 更多信息，請訪問APMLab主頁：https://faculty.sustech.edu.cn/dengh/
l 實驗室非常歡迎本科生參觀了解，請聯系：yaoly@mail.sustech.edu.cn
l 本課題組長期招聘博士后，待遇優厚，歡迎郵件聯系：dengh@sustech.edu.cn
